技術訊息
01
2022.03

LCD製程-ARRAY 曝光製程簡介

LCD製程-ARRAY 曝光製程簡介
受到光波照射後的正型光阻(參閱ARRAY 光阻塗佈製程簡介)會溶於顯影液之中，於清洗後去除，未受到照射的光阻則保留於底層膜上，形成電路所需的配線圖案。
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